2022-05-18 11:15:37 来源:稀土专利动态
【摘要】
本发明提供了一种氧化铈磨料在PI介电材料抛光中的用途,其中所述氧化铈磨料混合于化学机械抛光液形成组合物使用,所述氧化铈磨料的含量为0.1%?1%,所述化学机械抛光液的pH值<7。本发明的抛光液使用氧化铈作为磨料,在适当的氧化铈磨料含量和抛光液pH范围下,表现出较高的PI介电材料的抛光速率。
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